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光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的
根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机
其中决定芯片制程的就是前道光刻机，所以由于ASML使用了部分老美的技术，因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约，无法出货大陆中企
而且DUV光刻机的关键部件，如双工件台、浸没系统等，主要技术来自ASML自己，所以说ASML在DUV光刻机上拥有着说话的底气
当然，内部因素其实还不是最主要的，主要还是来自外部因素
所谓的外部因素，就是DUV光刻机毕竟是一项已经成熟的产品，从本质上说，DUV光刻机没有技术上难以逾越的鸿沟
中国院士说对了
不过根据最新的消息显示，老美方面计划将DUV光刻机也纳入范围当中
此前在EUV光刻机上，ASML的态度比较缓和，但这次直接表示了拒绝，可以说ASML不再遮掩，摊牌了
ASML之所以会在态度上出现这样的巨大反差，出于两个方面的因素，分为外部因素和内部因素
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在内部因素上，之所以EUV光刻机，ASML遵从了修改后的芯片规则，是因为EUV光刻机的关键零部件需要美的技术，甚至这些零部件就来自美本土
但是在DUV光刻机上则不然，换句话说，ASML在DUV光刻机上实现了全球领先，与美可以说没有直接的联系
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EUV光刻机与DUV光刻机的关键不同，是光源的不同，EUV光刻机的光源波长更短，制造难度很大
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