温宁克还以汽车市场为例介绍到,越来越多的汽车正在实现数字化,这将导致40nm至5nm芯片在汽车中的应用
尽管汽车行业主要使用传统工艺节点制造的芯片,但预计未来也将转向使用更先进制程的芯片
“市场对于我们产品的需求仍然高于我们的生产能力”,温宁克说:“我们的客户必须相信经济衰退的持续时间比我们机器的平均交货时间短
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中国造首台超分辨光刻机
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”为了提升ASML的交付能力,近日,ASML也宣布了其扩产计划,即在2025-2026年,将EUV光刻系统和DUV光刻系统的产能分别提升到90个和600个;2027-2028年将High-NA系统的产能提高到20个
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每台价格至少3亿欧元
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在“技术复杂性(芯片制造)上升”之际,与韩国当地客户密切合作“至关重要”
ASML CEO 温宁克补充说,“在这里设立一个培训中心也非常重要,因为这将有助于让技术更贴近客户
”ASML正在持续增加在韩国的研发投资,目标是在未来 10 年内在韩国再雇用1400 名员工
在今天的新闻发布会上,温宁克也表示,明年半导体也仍将面临全球经济衰退风险所带来的困难
但是,他仍非常有信心的预测,全球半导体市场在未来十年内仍将保持平均每年9%的增长
预计到2030年,全球半导体市场将达到1万亿至1.3万亿美元
众所周知,目前ASML是全球最大的光刻机供应商,同时也是唯一的EUV光刻机的供应商
由于EUV光刻系统中使用的极紫外光波长(13.5nm)相比DUV 浸入式光刻系统(193 nm)有着显着降低,多图案 DUV 步骤可以用单次曝光 EUV 步骤代替