我们国家在4年前,曾经研制出一种特别的光刻机,但是很少有人知道,它的名字叫超分辨率光刻机,这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程,通过多重曝光等手段,还可以实现10nm以下的工艺制程
在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工
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已经实际应用
2012年,中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务,经过近7年艰苦攻关,在无国外成熟经验可借鉴的情况下,突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米
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正合适,价格也不贵,现在用刻录机的少了,市面上的刻录机良莠不齐,水货很多,质量也没有保证,考虑很久,还是不从实体店买了,这款目前使用很好,没出现刻录废碟,点赞
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我在之前的视频里讲过,华为的光源专利,其目的就是先对强光源进行去相干处理,以达到匀光效果,这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的,波长越短越好,刻机分辨率就越高,制程工艺越先进
使用方便,安装简单,调配容易,效果不错,非常好用,商品很好很不错,性价比很高,物美价廉,非常好的一次购物体验
因为以现有的技术能力,这款光刻机只能做周期的线条和点阵,还是无法制作复杂的IC需要的图形的
同时,它还有一个显著的缺点,就是聚焦的面积非常小,属于接触式光刻,易产生缺陷,并且因为是直写式光刻,所以生产效率很低
所以,目前这款超分辨率光刻机只适用于特殊应用,例如科研攻关、技术研发等领域
它的验收成功,也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,具有重大意义
因为,超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机
EUV指的是极紫外光,它可以制造7nm以下的芯片,使用的是13.5nm波长的光源
先锋6X蓝光刻录机外观很美观,做工精细超薄的外表很喜欢,Type-c接口比较通用的接口, 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统,支持千年光盘/BDR-XS07CS,正在使用中
以前台式机用的就是这个品牌的光驱,老品牌值得信赖。读写速度还不错,比较薄,也不占地方,刻录的功能还没试,应该不会差到哪里去。很满意。