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光刻机_雕刻机_曝光系统

EUV光刻机突破出货限制,全世界光刻机技术

那么,除了ASML这个大公司,我们还有其他的选择吗?其实,最近我们就有了新的选择

据悉,最近日本企业“佳能公司”正在筹备建设新工厂,并且根据放出的消息称:佳能公司旨在以更低的成本造出先进下一代光刻机

很多专家预测,佳能公司的新光刻机可能是2021纳米压印科技升级版,能够实现14nm芯片量产

显然,以我们目前的情况来说,还是第二种选择更符合实际

一直以来,我们都十分希望尽快ASML公司的光刻机,但是在美国技术的限制下,美国并不允许将含有自己技术的产品出口给中国市场,这就导致了我们再也不能从ASML公司进口高端光刻机了

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这两年,基于光刻机的新市场规则,我国很难再从国外进口到先进的EUV光刻机,如今虽然美国对ASML公司松口了,允许ASML公司出口光刻机了,但是只是一些中低端产品,我们并不需要

那么,在缺少高端光刻机的情况下,我们到底该怎么做呢?我们只有两大选择,一是自己研发制造出高端的国产光刻机,二就是在国际上寻求不含美国技术的光刻机

EUV光刻机突破出货限制,全世界光刻机技术

全世界光刻机技术

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那么,话说回来,佳能是否愿意出口给中国光刻机呢?其实,小编个人认为是肯定愿意的

首先,之前美企找佳能谈过话,就是关于光刻机出口范围的问题

当时,佳能并没有答应与美企的要求和合作,并且表示将会加大对中国市场的布局,拿下更多的中国客户

大家都知道,我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快,无论是从芯片还是从光刻机方面,我们都顺利的制造出了属于我们的“国货

但是,我们的国货终究技术有限,目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距,而我们想从国外进口,却又面临到了一个重大难题

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EUV光刻机突破出货限制

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