中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
回国之后就想着购置一台主流的台式机，平时偶尔玩玩游戏，同时需要能满足某些诸如Photoshop，Matlab等专业性的需求，无奈品牌机很少能两者兼顾，性价比也不是很高，于是萌发出自行组装的想法。趁着这次京东618活动，一次性买齐所有组件，全部是京东自营购入，主要也是看重正品及售后保障。主机的配置如下：Intel i7 8700 + 微星B360M迫击炮 + 微星GTX1650 + 威刚内存（8G*2 DDR4 3000）+ Intel 760P SSD 256G + Seagate HDD 1** + 先锋DVD光驱 + 先马机箱电源600W + 飞利浦显示屏。Intel i7 8700性能十分强劲，SSD能够使机器实现秒开，与之前笔记本的对比还是相当明显的；微星主板一如既往地可靠，迫击炮这款可谓是短小精悍，接口齐全，之所以选择GTX1650，也是兼顾成本与实际需求，虽说比不上国际3A大作特效全开，但是应付古剑三等还是绰绰有余；希捷硬盘值得信赖，2.5寸的已经入手好几块，十分便捷；先马的机箱内部空间相当大，走背线完全没问题，考虑到以后可能的升级，电源选择600W全模组，用到目前相当稳定；复古式机箱搭配Pioneer光驱，以前的光碟也完全可以应付。另外，尽管是618，各个自营店的物流速度相当快，这次的购机体验很好！很满意！
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年实则是炒光刻机
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）