图为芯片晶圆加工在现代芯片制造中，光刻机可谓是一项必需的设备，在晶圆加工成芯片的过程中，包括光刻气体，光刻胶以及光罩在内的一系列光刻工艺步骤，都需要光刻机来完成，而这些步骤占据了晶圆加工流程的30%，可以说，一个国家如果没有光刻机，在制造芯片时几乎就是无从下手，但目前世界光刻机市场的话语权，均被牢牢掌握在西方手里，荷兰的AMSL更是垄断了10纳米工艺以下的光刻机市场
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图为ASML光刻机在AMSL的公司份额占比中，美国企业占据了近一半，这也意味着AMSL实际上是被美国掌控着，这也给AMSL生产光刻机带来了无尽的方便，AMSL生产的每一台光刻机，都由来自美德日韩等国供应商提供关键部件，以AMSL最先进的EUV光刻机为例，该光刻机的光源技术来自美国，工作台跟镜头来自德国，激光器则来自日本，要钱有钱，要资源有资源的AMSL，垄断市场是必然的
图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀，在目前阶段，中国应该大力发展中低端光刻机技术，并实现大规模量产交付，以此来扩大产业规模，培养技术人才，只有这样，中国才能追上与西方在技术上的差距，并早日实现高端光刻机的国产化
西方之所以能够垄断光刻机产业，主要得益于西方国家在半导体技术上起步较早，有着全套的技术产业，而后发国家缺乏相关技术，经验以及产业配套，在光刻机制造上几乎举步维艰，与生产芯片的其他工艺相比，光刻机的制造高度复杂，这种设备的制造需要一个完整的高端产业链来提供部件，单独一个企业不可能完成制造，AMSL虽然身为荷兰公司，但这家公司背后却代表的是整个西方半导体产业
浸没式光刻机项目
欧美百般阻扰中国
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由此可见，目前在芯片领域被卡脖子的中国，想要实现光刻机的国产化是相当困难的，但生产国产光刻机并不是不可能，出于技术积累与人才储备不足的问题，中国目前显然无法完成高端光刻机的国产化，但对于中低端光刻机，中国有足够的实力去完成国产化，目前上海微电子公司就已经展开了对28纳米工艺光刻机的研发，该光刻机将于今年交付使用，虽然28纳米制程落后于国际领先水平，但这却让中国的光刻机工艺从90纳米直接步入28纳米，属于重大进步
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