2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。
物美价廉，性价比高，下次还买了，读盘速度：非常块读盘声音：非常小稳定性能：稳定性能：非常 稳定
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年
先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉
中国7纳米光刻机量产
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好
挺好的，价格公道，先锋刻录机应该是刻录机里面最好的品牌了，很早之前用过一个115ch，用到老化，也只是刻录速度变慢，从来没刻飞过，后来买了别的品牌的，简直是噩梦。京东不错，不怕买到翻新货，价格还公道，不用去电脑城挨宰和被以次充好了。
比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
这款蓝光刻录机价格太硬了，我等了一年终于降价了，赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机，用了十几年了还在用，刻录杠杠的，没一点问题，声音特别小，性能稳定，外观大气，读写速度都很快，质量绝对硬！！