跪舔美国如今却后悔不迭
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日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺，据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm，NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成，这对于ASML同样是重大打击，日本芯片设备行业曾经领先ASML，如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业，日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草
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ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满，曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机，然而如今全球市场却出现一股风潮，那就是绕开EUV光刻机，这让ASML后悔不迭
首先是ASML跪舔的美国抛弃了它
美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%，而功耗降低了20%，更重要的是成本大幅下降，这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍
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此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收
面对中国台湾、美国和日本的芯片企业做出的选择，ASML似乎还颇为硬气，近期宣布将在未来两年大举扩张EUV光刻机和DUV光刻机的产能，业界人士认为ASML此举可能是计划在未来对中国出售光刻机
然而由于ASML迟迟没有做出对中国销售光刻机的决定，中国已失去耐心
早前中国招标28台光刻机的时候，其中21台给了日本光刻机企业，7台给了中国大陆的企业；中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术，还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破，显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机