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光刻机_雕刻机_曝光系统

上海大学光刻机,ASML即将推出新一代光刻机

面对这种局面,想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了,不过过去十几年我国在光刻研发上也投入了很多,但是取得的效果并不是很明显

目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机,而且目前还没有正式量产,这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的,跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大

上海大学光刻机

根据阿斯麦透露的信息来,他们的新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制造完成,顶级芯片供应商准备最早2025年开始使用上述产品的量产机

而且新一代EUV光刻机售价要比目前的EUV光刻机翻一倍,目前EUV光刻机的售价大概在2亿美元左右,而新一代EUV光刻机售价高达4亿美元

尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一,但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售,就算我们愿意出更高的价格购买,他们也不愿意卖,这是相当尴尬的一件事情

而ASML之所以不愿意向我国出口最顶尖的光刻机,这里面既有欧美的阻挠,估计ASML的股东们也不太乐意向中国大陆出口顶级光刻机,毕竟一旦中国大陆坐拥最顶尖光刻机之后,这些头部芯片制造商就会受到很大的挑战

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尽管后来尼康佳能碰得头破血流,终于攻破了157纳米干式光刻技术,但是当他们反应过来的时候,干式光刻机已经没有任何市场优势

所以从2005年之后,他们的市场份额不断被ASML吞食,目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手

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上海大学光刻机,ASML即将推出新一代光刻机

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送货依然很快 到了就装上了 很快很静音 以前的也是先锋的 用了很多年很多次 买新的依然选择先锋

ASML即将推出新一代光刻机

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面对这种现实,我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线,不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中

在这条路线上ASML有积累、有资金、有技术、有供应链、有市场优势,所以我们再怎么拼估计也拼不过他们,这时候还不如放手一搏,去攻破其他光刻机技术路线,就像当年ASML放手一搏一样

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