同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2，在未来十年的新技术上，目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究；这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉
比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！
读盘速度：很快 读盘声音：还好 稳定性能：不错 轻薄程度：够短 外形外观：憨厚 产品包装：很好
读盘速度：很快 读盘声音：很轻 稳定性能：很好 轻薄程度：超薄的 外形外观：大气 产品包装：严谨
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年
光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。
先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上
很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意
光刻机行业分析
