中国企业早在数年前也申请了石墨烯专利，当时国内也曾大事宣传，然而数年过去，真正的石墨烯电池、石墨烯芯片仍然未见踪影，倒是石墨烯散热片、石墨烯底裤等独特的产品出现了，让这些企业借此出名，然而这对于石墨烯技术的发展并不会有太大的作用
口罩换光刻机成功了吗
读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。
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对于光刻机行业也是类似，当前中国最应该也有希望的是先搞定14nm、28nm光刻机，将这些先进工艺实现完全国产化，夯实光刻机产业链，然后再往更先进的EUV光刻机前进，要不然没有完善的光刻机产业链，即使有EUV光刻机专利也无法生产出EUV光刻机产品
读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠
其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术
事实上光刻机本身就是一条相当庞大的产业链，需要双工作台、物镜系统、光源系统等诸多设备，这绝不是仅仅靠一两家供应商就能搞定的，至于专利方面，ASML仅是在中国就已申请了近5000份专利，其中已有2000份专利获得授权，它在全球市场更是拥有近万专利
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国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样
EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性