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光刻机_雕刻机_曝光系统

nikon光刻机i4,DUV光刻机出货新规或将迎来变数

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要知道,在美限制新规出炉之后,率先拉拢的就是荷兰和日半导体

首先是因为在尖端技术领域突破上,美半导体和日半导体有先联合的基础

其次是,在光刻机市场上ASML是一个重点,加之日本也有光刻巨头,并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货

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面对美拉拢的时候,日半导体可谓是表态很迅速,直言他们已经在参考哪一些可以跟随限制了

显然,那个时候日半导体是给老美释放了一个不错的信号

只是在这番表态之后,日半导体久久没有实际上的行动,不仅如此在中途还内部联合了多家企业组建了欲攻破2nm等尖端技术的联盟

也就是说,只要有一个盟友不加入,美企是不会遭遇大范围限制局面的

这个时候光是码着ASML一个企业限制,这任谁都想不过去

因此,个人才觉得日半导体如今走到施压态度是出现的一个突破点

而一旦日半导体这一方面有所改变,那么DUV光刻机出货的新规或将迎来变数

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这不管是对于我们国内市场上,还是对于ASML来说都是一个不太好的信号

只不过,现在“突破点”出现了

就在日前,有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压,据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题

至于小编为何说这是一个突破点,是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议

要说这两者没有关系,估计外界也会有所质疑

只要日半导体的态度有所改变,荷兰方面的态度也有变动的机会

毕竟,美限制起到作用有一个前提条件,那就是“盟友加入”,并且还承诺过美企要拉拢其他的企业限制,才会对美企做出同样的限制

nikon光刻机i4

DUV光刻机出货新规或将迎来变数

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