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半导体设备主要由七大设备零部件构成:光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、薄膜沉积设备、离子注入设备、机械抛光设备及封装、测试设备

①光刻机(国产化率低于10%) 全球:技术壁垒超高,竞争格局超好

AS­ML、尼康佳能三家厂商垄断,其中又以AS­ML一家独大

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颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

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