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光刻机
光刻机什么时候中国能造
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半导体设备主要由七大设备零部件构成:光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、薄膜沉积设备、离子注入设备、机械抛光设备及封装、测试设备
①光刻机(国产化率低于10%) 全球:技术壁垒超高,竞争格局超好
ASML、尼康和佳能三家厂商垄断,其中又以ASML一家独大
读盘速度:很好 读盘声音:无声 稳定性能:俱佳 产品包装:完好 外形外观:无损 轻薄程度:满意
颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心