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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国市场已是它最后的救命稻草,国产光刻机成都验收通过

三星的3nm工艺表现较好,但是三星的3nm工艺在良率方面却比台积电更低,导致成本奇高,失去经济价值

同时全球芯片行业已步入下行阶段,芯片企业为了节省成本均不愿采用先进工艺,高通就已确定将从只拥有14nm及成熟工艺的格芯采购76亿美元的芯片,这都导致台积电等芯片制造企业失去了研发先进工艺的动力

当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星,它们目前推进的最先进工艺为3nm,然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期,这已导致苹果放弃了3nm,迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E

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读盘速度:读盘很快,速度很美,相当不错 读盘声音:很安静,振动也很小,不错! 稳定性能:长时间使用,经常用,能稳定运行两年多,前一个也是这一款! 轻薄程度:台式机用,厚度固定了,这个无所谓了! 外形外观:外形就那样,台式机光驱没有啥特别的外形! 产品包装:包装很好,外面是个纸箱,里面是商品的包装,有减震

值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场,韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场,它们目前都希望中国企业采购更多芯片,帮助它们解决芯片库存,确保现金流,为此甚至不惜大举降价抛售,与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比,这不免让人感叹一年河东、一年河西

如此情况下,这些芯片制造企业已不可能继续大规模采购EUV光刻机,对于更先进的High-NA EUV光刻机的采购也可能因此延期,毕竟市场需求不强的情况下,更先进的光刻机投资额巨大,会导致芯片制造企业承担巨大的风险

当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里,通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构,从而制造更先进的工艺,然而这种方式随着向更先进的工艺推进,这种方式导致光刻机日益笨重,光刻机自身的成本也因此激增,第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元,预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元

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中国市场已是它最后的救命稻草

国产光刻机成都验收通过

使用了几次,才来评价,全五星全五分好评!质量不错,读盘速度挺快,同时购买了一款外置的,这个还没有用过过。相信先锋品牌的质量,相信京东自营货物品质。

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的,也是利用激光束的反射来读取资料,所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取,不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌,和Nero10.0软件完美兼容,非常稳定,快。价格也很便宜,性价比非常之好了。

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