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众所周知,目前芯片的制造流程中,光刻机是必不可少的设备,且从成本来看,光刻机占所有半导体设备成本的20-25%
但是大家也清楚,当前在光刻机领域,ASML是一家独大,特别是EUV光刻机,只有ASML能够生产,而在尖端一点的DUV光刻上面,也是ASML占优,佳能、尼康等品牌,主要占的是低档市场
如上图所示,这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况,大家可以看到高档的EUV光刻机,ASML完全垄断,低档尼康、佳能有一定的份额
而中国大量需要光刻机,特别是EUV光刻机,这就造成了市场与需求的不匹配,但ASML也没办法啊
虽然尼康、佳能、上海微电子都有光刻机,但要搞定EUV光刻机,估计是没太多办法的,ASML攒局的能力太强了,已经将利益链捆绑在一起了
为此,这要怎么办呢?当然就要换道超车了,比如佳能,知道在EUV上是不可能打败ASML的,所以一直押注纳米压印光刻(NIL)技术
日本euv光刻机出现
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所以其它厂商有一个非常大的机会,那就是搞定EUV光刻机,然后卖给中国,那会是巨大的市场
不过,要掌握EUV光刻机技术,可不容易,因为ASML造EUV光刻机,是整合了全球的技术,美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔,可以说是举全球之力完成的
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还是媲美EUV的那种
佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺
当然现在的问题是,能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机,究竟会在什么时候面市,如果佳能能够实现这个技术,全球的半导体格局都有可能生变
还行,挺不错的,之前公司的让我弄坏了,自己买了一个赔给公司。测试了所有功能,一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快,态度也很好,好评!