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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机产线整体解决方案股票,“突破点”出现

要知道,在美限制新规出炉之后,率先拉拢的就是荷兰和日半导体

首先是因为在尖端技术领域突破上,美半导体和日半导体有先联合的基础

其次是,在光刻机市场上ASML是一个重点,加之日本也有光刻巨头,并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货

这不管是对于我们国内市场上,还是对于ASML来说都是一个不太好的信号

只不过,现在“突破点”出现了

就在日前,有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压,据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题

至于小编为何说这是一个突破点,是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议

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足以见得,日半导体不是那么想要跟随限制

这一点从现在老美直接施压也可以看出一点苗头

那么基于这个情况下,想要日半导体跟随老美的限制很大可能是存在意外的

更凑巧的是,在传出了老美直接的要求之后,日半导体之前内部所建立的芯片联盟有了新的动向,那就是短时间内就将研发提上了日程

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拉扯了那么久的DUV光刻机是否会被限制的事情,还是迎来了一个我们并不想看到的局面——“荷兰正在同老美商量对于实施半导体设备出货限制的事情进行谈判,最早会在下个月达成新的协议

”从之前荷兰明确表态不跟随到现如今的情况来看,DUV光刻机的出货新规很有可能就是限制出货,而一旦如此,也说明在老美拉拢盟友的过程中已经打开了一个缺口,余下的老美估计会想方设法的拉拢到同样限制的阵营当中

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也就是说,只要有一个盟友不加入,美企是不会遭遇大范围限制局面的

这个时候光是码着ASML一个企业限制,这任谁都想不过去

因此,个人才觉得日半导体如今走到被施压的态度是出现的一个突破点

而一旦日半导体这一方面有所改变,那么DUV光刻机出货的新规或将迎来变数

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“突破点”出现

读盘速度:读速很快 读盘声音:一般情况下,声音较轻 稳定性能:稳定性高 轻薄程度:大小合适 外形外观:外观美观 产品包装:包装精美,质量可靠

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