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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国光刻机相关公司,三种EUV光刻机替代方案

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这种方式比传统光刻分辨率更高,加工速度也不受影响,但它对材料控制的要求特别高,目前还没有成熟的解决方案,还处在实验室阶段

而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院,他们都建立了自组装产线,进行相关研究,三星在DSA上申请的专利最多,也非常重视这一 技术

第二大方案是电子束光刻机(EBL),用高能电子束来替代紫外线,电子对应的波长只有0.04纳米,加工精度就比EUV又高了不少

目前在这一块比较突出的是美国,前不久前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm)

读盘速度:十分快 读盘声音:小 稳定性能:十分不错 轻薄程度:刚刚好 外形外观:美观 产品包装:很好

三种EUV光刻机替代方案

众所周知,光刻机是芯片制造的母机,是最核心设备之一

而EUV光刻机,则用于7nm及以下的芯片制造,且只有ASML一家企业能够生产

考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机,且与上下游形成了利益同盟,所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML,基本上不可能的

超级好的光速啊,十年前买的一个一直都在用,用不坏的先锋,还会再买这个牌子的。。。。

所以其它厂商,只能另想办法,换道超车,用另外的技术来替代EUV光刻机

目前已经有三大方案,都被认为是可以替代EUV光刻机方案的,并且被大家重视,很多企业更是投入巨资研发,以期有所突破,进而替代EUV光刻机

第一大方案是NIL纳米压印,其原理类似于打印机一样,先在模具上刻上纳米电路的图案,再把这个图压在硅片的感光材料上,同时用紫外线照射,就能完成转印,这种方式可以达到至少2nm的精度

并且Zyvex还接受电子束光刻机订单,称只需要6个月就可以交货,很明显,这种技术也能够替代EUV光刻机,唯一的用这种方式,速度非常慢,但后期还有改进空间

第三大方案则是自组装(DSA)光刻,所以谓的自组装光刻,就是用一些化学物质,诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构,中间不需要光刻机参与

中国光刻机相关公司,三种EUV光刻机替代方案

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读盘速度:很快,比以前家里的快多了。 读盘声音:声音小,也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能:稳定好用,没有出现过问题。 轻薄程度:轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了,也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观:外观好看。真的不错

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中国光刻机相关公司

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