中国哪家公司买荷兰光刻机
再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机,台积电当下的先进工艺制程产能过剩,而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺,为了增强竞争优势,台积电建立“3D Fabric”联盟,以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本
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日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草
早前中国招标28台光刻机的时候,其中21台给了日本光刻机企业,7台给了中国大陆的企业;中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术,还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破,显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机
事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器,研发先进工艺有了更多途径,ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃,如果没有了EUV光刻机带来的厚利,ASML将再度回到20年前艰难求生的日子,对此它或许已经后悔不迭了吧?
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ASML的哀伤
此前美国提出的每项举措,ASML都迅速紧紧跟随,美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机,ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付,今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机,ASML照单全收