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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机对准技术的专利概况分析,发力NIL技术

光刻机对准技术的专利概况分析

佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺

当然现在的问题是,能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机,究竟会在什么时候面市,如果佳能能够实现这个技术,全球半导体格局都有可能生变

发力NIL技术

非常好,便宜实惠,安装方便,不用任何驱动,内置光驱比外置的寿命长,就是携带不方便,是sata接口的,没有数据线,物流速度非常快!

众所周知,目前芯片制造流程中,光刻机是必不可少的设备,且从成本来看,光刻机占所有半导体设备成本的20-25%

但是大家也清楚,当前在光刻机领域,ASML是一家独大,特别是EUV光刻机,只有ASML能够生产,而在尖端一点的DUV光刻上面,也是ASML占优,佳能、尼康等品牌,主要占的是低档市场

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的,也是利用激光束的反射来读取资料,所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取,不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌,和Nero10.0软件完美兼容,非常稳定,快。价格也很便宜,性价比非常之好了。

所谓NIL技术,是将三维结构掩膜压在晶圆的感光材料上,同时照射光线完成一次性转印,被称为是最有前景的光刻技术之一

目前在NIL的专利上,佳能一支独秀,远超其它任何厂商,并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上,而是已经有有生产出来了,在2021年就有了成品,并且被铠侠应用于NAND闪存的生产

读盘速度:8倍速,速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音:声音不大,外接放置也很稳。 轻薄程度:轻薄,手感很好。 外形外观:黑色磨砂质感,看起来稳重显高级。 产品包装:盒子里有防震保护,盒子外面套塑料袋,干净。 快递速度特别快,从下单拿到手,只用了不到5个小时。

如上图所示,这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况,大家可以看到高档的EUV光刻机,ASML完全垄断,低档尼康、佳能有一定的份额

而中国大量需要光刻机,特别是EUV光刻机,这就造成了市场与需求的不匹配,但ASML也没办法啊

光刻机对准技术的专利概况分析,发力NIL技术

值得大家注意的是,目前NIL技术,基本上都是日系厂商掌握,并不需要依赖美国、欧洲等的产业链,也就是说NIL光刻机,日本一旦生产出来,可以不听美国的,不受美国的长臂管辖,也意味着佳能一定生产出来,是可以卖给中国的

读盘速度:读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定! 读盘声音:静音效果好,不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能支持UHD 的4K蓝光盘读写!这点非常棒,是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好,连续读写不降速。 轻薄程度:正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观:外观漂亮,新款带类钢琴烤漆面的一体面板,比老款好看很多。 产品包装:包装精致,不知道是不是因为是国内总代的关系,所有一次性封贴都是索厉的。

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