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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML的哀伤,可代替光刻机的技术

自打U盘流行,硬盘容量大了之后,光驱就离我们越来越远了,刻录机也不例外,现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐,而CD正是最好的载体,所以空着多年的光驱位又要启用了,当日下单次日即收到,趁孩子睡午觉立即刻了两张盘,刻录能支持最大速度,但我用的是最低速度来,一张CD刻好也只需十来分钟,刻好立即回放读碟,效果棒棒的,这光驱不管读还是读都叫我满意!

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草

可代替光刻机的技术

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事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器,研发先进工艺有了更多途径,ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃,如果没有了EUV光刻机带来的厚利,ASML将再度回到20年前艰难求生的日子,对此它或许已经后悔不迭了吧?

随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽,ASML正陷入窘境,这一切都与ASML跪舔美国有关

然而如今却是美国率先背叛ASML,然后日本再施加压力台积电等无力大规模采购EUV光刻机,最终导致了ASML陷入如今的窘境,可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取

发货速度快,包装严实,刻录机做工很精致,装上很好用,就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱,完美安装上后,开机自动识别,无需任何操作(win7)

其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米,打破了ASML尚未量产第二代EUV光刻机的极限,如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

ASML的哀伤,可代替光刻机的技术

很好的刻录光驱,可以8倍速刻录光盘,先锋的光驱产品一直是行业领先的存在,上大学的时候就用的先锋的刻录光驱,现在已经毕业多年,这次公司要买个可以刻录的光驱,第一反应选择了先锋的光驱,很不错,京东的小哥送货上门,好好的服务。

很棒的机器,收到后就连刻四张CD,全部成功,播放音质震撼,和原版没有区别。上午到货,自营的商品物流就是快。放了一张盘,声音很小,很安静,手里没有空白盘,未尝试刻录功能。

ASML的哀伤

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机,台积电当下的先进工艺制程产能过剩,而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺,为了增强竞争优势,台积电建立“3D Fabric”联盟,以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

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