这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。
第三次在自营店里头买这款刻录机了，非常好用，第一台17年买的到现在还在使用哦，真是耐用啊，虽然只能刻CD了，这台买着备用，自营的质量就是放心，比**的货强多了！
非常小巧的产品，出乎意料特别的轻，有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的，质量自然刚刚的，过去一直使用这个品牌，今次也不例外。声音很安静，基本没有振动，当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙，移动方便。
做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的
比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展
很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
读盘速度：很快 读盘声音：不大 稳定性能：很稳定 轻薄程度：合适 外形外观：完好 产品包装：结实
非常好用的一款光驱。京东快递送货很快昨天晚上下单今天就送到啦。表扬。电脑上已经有了一台先锋刻录机也是在京东买的。由于刻录机。比较挑盘所以特意又买了一台DVD。这台先锋dvd，读盘非常稳定几乎听不到噪声。就算是，再烂的盘，也是很安静。有一张高压缩的dvd，连续剧碟在刻录机里完全不能读，但是这个新买的dvd光驱。就很顺利地读完了。
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年国内光刻机成功
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）