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光刻机_雕刻机_曝光系统

已成芯片制造的最大短板了,光刻机技术落后

众所周知,中国大陆芯片产业要发展,与台湾省、与韩国、与日本、欧洲、美国等国家和地区的情况都不一样,复杂很多

像台湾省、韩国、日本等地,要发展芯片产业,是整合全球供应链,买最先进的产品,再整合起来就行,真正的全球一体化

已成芯片制造的最大短板了,光刻机技术落后

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可见,光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了,所以国产光刻机真的要努力才行,不说实现5nm,先实现28nm,再搞定14nm,先实现与其它国产半导体设备一个节点才行,你觉得呢?而只要国产半导体设备有了突破,达到先进水平,禁运也就没有了任何意义,也就会全面放开了,刻蚀机就是最好的例子

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但中国大陆要发展芯片产业,全球一体化只是想一想而已,需要的是全国产产业链崛起,因为美国一直想方设法的卡着我们发展芯片产业的“脖子”,特别是一些先进的设备,就不允许卖到中国大陆来,全球一体化实现不了

所以一直以来,国产芯片供应都是在负重前行,先解决从0到1的问题,再从1慢慢发展到10,最终达到全球顶尖水平,与国际巨头扳手腕

已成芯片制造的最大短板了

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光刻机技术落后

那么问题来了,当前国产半导体设备中,技术最先进的是哪一种,技术相对最落后的又是哪一种呢?上图这张图,其实说得非常明白了

刻蚀机应该是当前国产半导体设备中,唯一达到国际先进水平的,已经达到了5nm

这家公司就是中微公司,其生产的刻蚀机,早就实现了5nm,被台积电、中芯等晶圆厂使用

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事实上,刻蚀机之前也是被美国禁运的,但随着中微公司的先进刻蚀机后,禁运也就没意义了,于是放开了市场,中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了,目前上海微电子生产的光刻机,其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机,已经能够生产3nm的芯片了,这中间的差距还是相当大的

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