日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺,此前已被铠侠用于存储芯片生产,此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm,到去年底日本已将该工艺突破10nm,到如今不到1年时间又突破到5nm,可谓进展神速
回国之后就想着购置一台主流的台式机,平时偶尔玩玩游戏,同时需要能满足某些诸如Photoshop,Matlab等专业性的需求,无奈品牌机很少能两者兼顾,性价比也不是很高,于是萌发出自行组装的想法。趁着这次京东618活动,一次性买齐所有组件,全部是京东自营购入,主要也是看重正品及售后保障。主机的配置如下:Intel i7 8700 + 微星B360M迫击炮 + 微星GTX1650 + 威刚内存(8G*2 DDR4 3000)+ Intel 760P SSD 256G + Seagate HDD 1** + 先锋DVD光驱 + 先马机箱电源600W + 飞利浦显示屏。Intel i7 8700性能十分强劲,SSD能够使机器实现秒开,与之前笔记本的对比还是相当明显的;微星主板一如既往地可靠,迫击炮这款可谓是短小精悍,接口齐全,之所以选择GTX1650,也是兼顾成本与实际需求,虽说比不上国际3A大作特效全开,但是应付古剑三等还是绰绰有余;希捷硬盘值得信赖,2.5寸的已经入手好几块,十分便捷;先马的机箱内部空间相当大,走背线完全没问题,考虑到以后可能的升级,电源选择600W全模组,用到目前相当稳定;复古式机箱搭配Pioneer光驱,以前的光碟也完全可以应付。另外,尽管是618,各个自营店的物流速度相当快,这次的购机体验很好!很满意!
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早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统,它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光,而采用了电子束(EBA)刻印电路,精度远超采用极紫外线的EUV光刻机,工艺制程可以达到0.768nm,这对于ASML更是重大打击
中芯国际光刻机烧毁
买回来第二天就用上了。刻录稳定且DVD读取速度也无碍。非常适合我。一直都是用先锋的光驱,厦量还可以。试了一下读碟正常。刻录方面没试,平时很少用。
据悉日本已成功突破5nm工艺,这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的,此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺,似乎ASML正陷入众叛亲离的局面
由于成本过于昂贵,台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题,甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺
日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺,在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了,用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元,而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元,第二代EUV光刻机价格达到4亿美元
和美国远离EUV
除了设备过于昂贵之外,EUV光刻机的耗电量也是剧增,据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%,如果引入第二代EUV光刻机,预计耗电量将进一步上涨,不知中国台湾能否撑得住,昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受,这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵