比起DUV光刻机，它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸
而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的
与ASML的EUV光刻机相比，我们就像是拿着一把盒尺，想要测量国际米原器的精度一样
美国人为了遏制我们在半导体领域的发展，不但限制ASML出口给中国EUV光刻机，就连采用深紫外光的DUV光刻机都限制对我国出口
荷兰为何不卖光刻机给中国
这里的3纳米是指节点技术的关键尺寸，指的是栅极长度（gate length），也就是单个晶体管的长度
给别人组装新机安装的刻录机，这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的，使用效果让人很满意，它是我给别人组装新机的不二之选。
快递超级给力，次日达。本次活动也可以呀。先锋的刻录机，多年的老牌子了，DVD刻录机还用着这个的。目前支持4K的光驱极其稀少了
一直用的这个品牌的，质量非常好，还没上手用新买的，希望能够好用，一次买了两个，办公方便。
美国人为什么要限制我们购买?
光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀，工作台的移动精度越高，所加工的芯片精度就越高
ASML公司的EUV光刻机工作台采用的是一种高精度的激光干涉仪，以此进行微动台的位移测量，构建出一个闭环的控制系统，进而实现纳米级的超精密同步运动
这比挖比特币还要费电！我们自己的光刻机做到了什么水平呢？ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片
我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺，能做26nm的芯片
据报道，上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机，尽快还达不到国际最先进的光刻机水平，但是在手机、汽车等民用领域，以及武器装备用的芯片上，我们已经可以自给自足
和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。
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