滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

在绝大多数人的认知中，决定芯片工艺的，是EUV光刻机，是技术，毕竟7nm及以下工艺，必须要用EUV光刻机，如果ASML不卖给你，就“巧妇难为无米之炊”

但大家有没有想过，电力其实也是半导体竞争的重要一环？如果供电跟不上，空有EUV光刻机，空有技术，也没戏

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

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除此之外，中国2021年在半导体行业的支出为296.2亿美元，已经连续两年成为世界半导体设备的最大买家

同时，因为半导体产业是全球共同协作的，中国企业对光刻设备的需求又逐渐扩大，ASML自然无法忽视中国市场的重要性，与中国企业进行大量合作

继续对华出售商品

真是神速，昨天下午下的单，今天上午快递员就把货送到了，打开自己安装后，效果非常好，读碟速度快，播放顺畅，满分好评。

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根据计划，ASML韩国维修中心和工程师培训中心项目将于明日（2022年11月16日）举行开工仪式

为此，ASML CEO温宁克也亲自来到韩国，明日将与韩国政府官员及半导体行业人士共同参与开工仪式

光刻机的内部结构精密复杂就用荷兰阿斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说，这个光刻机中有10万多个零件，其中90%的关键设备都来自其他国家，该公司只负责整机设计和各模块集成

可以看出，想制造光刻机仅有核心技术是不够的，因为许多零件都要依靠进口，在这种情况下，想独立制造，肯定是极难做到的

从目前的情况来看，高端光刻胶当中日本所占的份额最多，其中生产的企业有日立化成、东京应化、日本富士胶片等等

此外其他用于制备光刻机的原材料也常常出现短缺的情况，尤其是在政治博弈的背景之下，我国在这方面总是会被“卡脖子”

京东快递真快，为什么没塑封，是消毒吗，made in china。外表完好，一会儿试试吧，非常轻，都1000多了，AC适配器也不给一个

而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试

而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm

国产光刻机往事:难

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送货特快！下单后15小时收到货，包装完好，有防震包装，货品与图片介绍完全一致。播放图像清晰，流畅，色彩无失真。刻录效果待使用后再追加。

是正品，速度快，刻盘稳定，稳定才是王道，不会坏盘，很满意。买给客户的，对方很满意，刻录速度比较快，声音小，很实用

得不到国外的先进光刻机，就只能自力更生，争取制造出国产光刻机

据悉，经过国内科技工作者以及相关企业的努力，中国在光刻机以及周边相关的卡脖子技术领域取得了一系列突破

面对中国取得的成就，西方国家和企业不是理性地看待，而是又打起了打压的念头

东方晶源一位负责人向媒体表示，公司所有的产品和技术均是自主研发，水平处于国内领先地位

其中研发出来的计算光刻产品，在半导体的生产过程中有着极为广泛的运用

业内一位人士向媒体表示，计算光刻技术可以显著提升芯片的良品率和质量

给单位同事购买的商品，没有反馈说不好用，肯定是很好用了！非常好，正品，刻录机只用先锋，完美的使用感受

而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队

好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术