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而且在这个关键时候，ASML还坚持完成没有交付的光刻机订单属实值得我们佩服以及欣喜

这意味着在后面我们很可能获得ASML出货的DUV光刻机

但外媒却表示：ASML摆脱不了老美的限制

言下之意就是如果老美非要ASML进行DUV光刻机不能出货给我们国内的企业，那么ASML也无法正常的出货

显然，这都不是在最近期限才顶住所谓压力而出货的光刻机

我们也完全没有必要高估ASML对自己出货的决心

不过有一说一，在出货光刻机上ASML确实是态度很坚决，在老美提出了多次要求，或者说是软硬兼施之下ASML还是没有改变自己的态度

之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机，其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右，而INTEL也计划用它在2025年左右，量产2nm、1.8nm的芯片

那么EUV光刻机技术，能够一直卡住芯片制造企业的脖子，让大家无法拒绝么？并不是的，只怕到2nm时就要走到尽头了，无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了，到这些工艺时，EUV光刻机也光刻不了，要更换新技术了

芯片这东西，就是电子产品最核心的东西，放在汽车上等同于发动机，是一切的核心

随着科技的发展，手机也越来越先进，拥有的功能也越来越多，对于芯片要求也越来越高，芯片承载负荷也随着增高，所以就需要更强大的芯片

而制造芯片，一定要用到一个机器，那就是光刻机

物流很快，上午下单下午就到了。东西很轻，主要用来读DVD和CD，目前没有什么问题，声音不大，刻录没用过。基本满足需求。

由此可见，如果没有了光刻机，那么芯片就会成为“无源之水”，所以光刻机的重要性自然是不言而喻了

如今既然各行各业都离不开芯片，那么制造芯片用的光刻机当然也就成了“香饽饽”

而在制造光刻机领域，其头部企业就是荷兰的阿斯麦，荷兰也是全球为数不多能生产EUV光刻机的国家之一

阿斯麦公司（ASML）目前在全球先进芯片的制造设备方面的建树很大，该公司一家就占了全球光刻机市场六成的份额，并且该公司也是全球一家能够供应7纳米以下芯片所需EUV光刻机的公司

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很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意

第二个因素就是中国的光刻机业务发展比较缓慢，根据之前梁孟松透露出来的消息来看，中芯国际已经掌握了7nm节点的工艺技术，但是由于没有办法拿到EUV光刻机，所以迟迟无法进行流片测试

大品牌，质量很好，性价比很高，安装使用方便，读写速度很快，光盘质量好的时候声音很好，使用有的光盘时候有较大声音。

简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

买了三个光驱，反馈都很不错，声音小，噪声小，刻盘的速度很快，跟之前的光驱比的确不是一个档次，之前光驱识别光盘都很困难，这个很快就能识别出来，真的是大赞。京东速度还是一如既往地快，让人赞不绝口，以后还是继续支持京东?

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据悉日本已成功突破5nm工艺，这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的，此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺，似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵，台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题，甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

如今EUV光刻机无法进入大陆市场，我国已实现90nm精度光刻机的量产，如果ASML的DUV再无法对华出货，ASML在全球最大的芯片市场将颗粒无收

其次，光刻机市场腹背受敌，第一个要说的就是来自美企的背刺

老美一方面通过技术专利限制ASML出货，另一方面不断从ASML挖高端人才补贴本地企业，美其名曰“盟友资源共享”，倒不如说这是削弱ASML的竞争力

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如今的中国飞速发展，各行各业都离不开芯片，虽然部分芯片中国可以国产，但是在高尖端芯片还是稍显不足，需要依靠进口芯片或者高端光刻机

而作为全球为数不多能生产EUV光刻机的荷兰阿斯麦公司自然不会放过中国这么大的市场，所以与中国之间的合作也是越发紧密

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2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的