至于佳能,尼康,则主要集中在最低端的还有UV(i-line)光刻机领域,在次高端的DUV领域,都表现一般
至于国产光刻机,虽然可以用于90nm,但其实晶圆厂们用得非常少,并且主要不是用于前道,也就是晶圆制造这一块,更多是用于后道,比如封测等领域
本来准备装电脑上的,结果发现机箱没有光驱位,索性加一个光驱盒,拿来当外置光驱,没想到速度还挺快的,声音很小,比较安静
当然,目前全球也在研发其它技术的光刻机,比如多电子束直写光刻机(MEB)、定向自组装技术(DSA)、nm压印技术(NIL)等不同新技术也,希望这些技术有所突破,那么我们就不必依赖ASML了,否则真的太难超越它了