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研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉，X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟

装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。

光刻机主要分为哪些部分呢？其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件，让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢？双工件台由华卓精科负责，华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统，打破ASML垄断，使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家

IT之家 8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石

组了一台生产力，工作需要的原因，搞了一个光驱装上。读取速度刻录速度都不错，sata接口也很方便，京东的物流快到不行，前一天晚上下单，第二天上午就拿到手了！好评好评～现在有需要光驱的应该很少了，感觉不错

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

读写速度比较快，基本上没有噪音，关键是耐用，之前一直在用Dell的，但是基本上很容易坏，用先锋之后就很好

世界上最顶尖的光刻机来自荷兰

ASML公司在顶尖光刻机上的创新思维十几年前，荷兰ASML生产的光刻机，并不是如今这样在国际市场上独领风骚，但是当时ASML的领导者慧眼如炬，采用了当时一种先进的光刻方案

这种方案在当时并不被尼康、佳能这些日本公司看好，他们更加相信成熟的光源干刻法

另外事实证明，美国想用半导体打压中国，几乎是不可能的事

目前中国已经在半导体领域掌握了多项关键技术，大部分芯片需求也实现了自给自足

利用半导体卡“脖子”的做法，最终非但限制不了中国的半导体产业发展，反而还会伤及美国自身以及盟友的利益

作为荷兰国宝级的企业，阿斯麦公司每年的营收超过百亿美元，其对荷兰经济发展以及劳动力就业的重要性不言而喻

基于上述原因，不管是阿斯麦公司还是荷兰政府，都不大可能答应美国政府的要求

与此同时，各方还要考虑对中国禁售DUV深紫外光刻机，对全球半导体产业供应链的影响

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号，就叫做EXE:5200，目前ASML已经有了规划，预计在2024年底，或者2025年交付

买了一段时间,非常好用……先锋大品牌、京东自营值得信赖,保修无忧。物流快捷下单第二天就到货,快递小哥服务态度? 读盘速度：8X-48X,刻录速度 12X-48X 读盘声音：很小 稳定性能：供电稳定,高速运转稳定性好 轻薄程度：正常光驱大小 产品包装：完好、简洁 需要还会光顾?

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美国对华“科技战”已成笑柄?“小弟”荷兰带头向中国出售光刻机国产光刻机相关的股票

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自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

原子弹与光刻机有着本质上的区别，一个要的是能“炸响”，一个要的是能“用”！原子弹只要能够提取出关键的原料，就能造得出来，而光刻机则不一样，一个国家凭借自己的力量真的很难造出来