面对这种现实,我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线,不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中
在这条路线上ASML有积累、有资金、有技术、有供应链、有市场优势,所以我们再怎么拼估计也拼不过他们,这时候还不如放手一搏,去攻破其他光刻机技术路线,就像当年ASML放手一搏一样
在2005年之前,ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已,当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康,但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上,然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题不过面对光刻机技术瓶颈,当时ASML另辟蹊径,采用了浸润式光刻技术,他们不再片面的追求突破157纳米路线,而是退回193纳米,结果通过采用浸润式光刻技术,他们一路开挂,远远把尼康和佳能甩在后面