滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

考虑到台积电还在不断的推进5nm、3nm，需要更多的EUV光刻机，未来这个耗电量还会增加

家里的电脑使用时间有点长了，光驱是易损品，时间长该换了，选了很久，买了这款先锋光驱，毕竟是大品牌，可信赖！总之5星好评！ 读盘速度：因为买的是刻录光驱，肯定主要看刻录速度，感觉还不错，CDRW24倍速，DVDRW是8倍速滴? 稳定性能：毕竟是大品牌，性能肯定比较稳。 轻薄程度：很好，适合台式机。

如今佳能也开工建设新的光刻机工厂，无疑显示出日本的光刻机企业认识到了中国这个庞大的市场带来的巨大机会，事实上这两年中国就大举从日本采购二手光刻机，推动日本的二手光刻机价格暴涨两倍多，让日本企业赚取了丰厚的利润

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

张建华知乎光刻机

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

面对美国的无理施压，ASML为何有底气向华盛顿说不？阿斯麦的分量美国商务部负责出口管制的工业和安全局局长艾斯特维兹27日表示，华盛顿正在与其盟友进行磋商，试图一同采取措施限制中国获得制造高端芯片的制造工具

好久不用光驱了，特殊用途还是有必要的。而且这个性价比比较高 产品包装：这个包装很大气啊，盒子也很大，里面是再生原料减震，看着不错。 外形外观：外观简洁大方，成熟稳重 轻薄程度：正常尺寸的三围 读盘速度：速度平稳，读盘不错 读盘声音：声音还好 稳定性能：目前稳定

今年7月，彭博社曾援引知情人士的消息称，美国正在向荷兰政府施压，要求扩大目前的对华出口限制范围，禁止ASML对华出口部分DUV光刻机

   EUV光刻机会使用二氧化碳激光不断轰击DUV上应用的金属锡原液，使其在激光下变为等离子状态，波长相比之前更短

这一技术不但考验机器的精加工能力，对于操控激光发射的软件也提出了艰巨的要求，别说我国，目前也只有荷兰掌握着成熟制造技术，其他发达国家都会向其采购预定，以提高本国技术水平

第三次在自营店里头买这款刻录机了，非常好用，第一台17年买的到现在还在使用哦，真是耐用啊，虽然只能刻CD了，这台买着备用，自营的质量就是放心，比**的货强多了！

中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机

送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。

产品收到，销售人员服务非常OK，有耐心，咨询的问题都及时帮忙解决。包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢。

众所周知，目前芯片的制造流程中，光刻机是必不可少的设备，且从成本来看，光刻机占所有半导体设备成本的20-25%

但是大家也清楚，当前在光刻机领域，ASML是一家独大，特别是EUV光刻机，只有ASML能够生产，而在尖端一点的DUV光刻上面，也是ASML占优，佳能、尼康等品牌，主要占的是低档市场

中国离7nm光刻机还有多远?

　　基础实力差，加上外国这样的“绊脚石”，让中国不得不主张自行研发

　　1977年，历经10年之久的中国经过自己的不懈努力，上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机

　　这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐，然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年，并且就在同年，美国再次推出了真正的自动化光刻机

帮同事升级电脑，装了固态硬盘，加了光驱，重装了win10系统，电脑速度一下子提高了许多。同事很开心。

国产光刻机相关的股票

对此不少人应该都会说，别人有都不如自己有，所以我们还是得自己造高端光刻机，这样就不用担心被人“卡脖子”了

它本身脱胎于飞利浦光刻设备研发小组，早期发展很艰难，但后期却异军突起，杀出重围

ASML早期发展艰难，后期异军突起目前，ASML垄断了高端深紫外光刻机市场，是光刻机领域的龙头企业

物美价廉，性价比高，下次还买了，读盘速度：非常块读盘声音：非常小稳定性能：稳定性能：非常 稳定

供应商遍布全球

当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样

但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了

读盘非常流畅，用起来非常舒适，非常好，性能实用，外观漂亮，很好的宝贝，推荐大家来买。适用于各种领域，总结起来一个字：好！！！不好的话我是不会买的，只要我买的东西都是挑好的，只买好的有用的，非常推荐！！！

而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队

编者按：2021年12月30日，长春光机所依托02专项极紫外光刻研究团队，在深圳国资委资助下，合作成立了一家新企业：长光集智光学科技有限公司

大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。

究竟能制造多少纳米的芯片?

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光