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另据韩媒 Business Korea 报道,三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电
随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程,芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响