光刻机之所以难,在于它是集诸多行业的精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链
此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展,可能成为它的竞争对手,中国制造此前的事实一再证明,只要中国取得突破的技术,那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多,在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手
光刻机之所以难,在于它是集诸多行业的精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链
此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破
ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展,可能成为它的竞争对手,中国制造此前的事实一再证明,只要中国取得突破的技术,那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多,在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手
先不论中国在全球半导体产业链中至关重要的地位,单就对于荷兰光刻机巨头ASML而言,该公司都不可能理会美国的施压,因为中国市场对于该公司而言十分重要
中国长期以来都是ASML的第三大市场,2022年的第一季度,中国给ASML增加了34%的收入
美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力,禁止向中国出售相关的光刻设备
阿斯麦公司(ASML)的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”,不愿向中国禁止销售DUV光刻机
而就在今天,荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示,中国市场至关重要,若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备,全世界范围内的半导体市场供应链将会中断
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而DUV光刻机又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;而ArF Dry用于65nm,还有KrF用于180nm等等
目前全球的光刻机厂商,真不多,特别是用于芯片制造的,也就是前道光刻机,全球也就四家,分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子
2014年,两人从阿斯麦美国子公司Brion辞职后创立XTAL,专注于计算光刻技术的发展
据悉,Brion公司是光刻计算概念的提出者,后来被阿斯麦全资收购
随后几年时间里,XTAL公司的计算光刻业务发展迅速,市场占有率不断提升,阿斯麦公司因此失去了许多重量级的客户
读盘速度:读盘速度是非常的快,光盘放进去之后,机器反应非常灵敏。? 读盘声音:读盘的声音比较小,而且声音很稳定。? 稳定性能:性能很稳定,读盘的时候声音很稳定。 轻薄程度:这不是轻薄的光驱,这种光驱现在很难买了。幸好先锋还在生产。这一种平置式要比那种超薄的效果要好。? 外形外观:做工非常好,一看就是大厂的东西。? 产品包装:包装非常好,一看就是大厂的东西。让人放心。
这一切欧盟各国都看在眼内,眼见这美国企业持续从中国市场获得丰厚收入,欧盟各国明白自己被摆了一道,这就是荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔发声的缘由,荷兰高官发声维护的无疑就是它的ASML,ASML已是荷兰不多的高科技企业了
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给别人组装新机安装的刻录机,这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的,使用效果让人很满意,它是我给别人组装新机的不二之选。
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自己几分钟换好了,刻了几个文件试试,很快,也没什么噪音,很不错,但愿能多用一阵子,先好评
先锋光驱,很多年的老品牌,用过一个先锋外置光驱,这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机,已装上,读盘很好,刻录功能还末试。
那么EUV光刻机技术,能够一直卡住芯片制造企业的脖子,让大家无法拒绝么?并不是的,只怕到2nm时就要走到尽头了,无法再继续支持1.4nm、1nm这样的更高工艺的芯片了,到这些工艺时,EUV光刻机也光刻不了,要更换新技术了
在上个月,美国政府颁布了一项新的法案,该法案将对中国的芯片进口,进行更严格的限制
而且,美国不仅仅是自己限制中国,他们还要求荷兰,日本以及韩国一道遵守他们的新法案,继续对中国的半导体行业实施管制
作为全球光刻机龙头企业的阿斯麦,当然难逃美国人的视线,这些天来,美国政府不止一次要求他们在这一问题上,亮明自身的态度
更何况,半导体行业已经走上了全球化的道路,荷兰虽然有最好的光刻机,但也有九成以上的原材料,需要从中国进口
也就是说,中国跟荷兰两国之间的关系,其实是对等了,双方都有“卡对方脖子”的能力
关于金春水教授和他的EUV研发情况,请参考前文:解读国产光刻机困局(四):长春光机所的EUV光刻机?长光集智光学科技有限公司:团队在长光集智光学科技有限公司股东名单里,我们看到一共有18位自然人股东,共持股20%
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长光集智光学注册资本30亿元人民币,其大股东为深圳市新凯来技术有限公司,持股60%;第二大股东便是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,持股20%;第三大股东是金春水,持股7%
如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机,首台交付时间就在明年
一旦我国光刻机被研制出来,那么ASML的市场就会被严重挤压
第三就是DUV光刻机对美国技术依赖较低
因为技术依赖程度比较低,所以ASML想卖DUV光刻机给中国,美方根本阻止不了
所谓high-NA即高数值孔径,从当前的0.33提升到0.55,从而允许更紧密的电路图案(2nm及以下)和更高的生产效率
据报道,高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间,约合人民币21.95到25.61亿元
这种方式虽然增加了功耗,但对于那些对功耗并不敏感的产品来说,似乎也是可行的一种思路,那么我们真的有必要用到更贵的高NA EUV光刻机进一步提升密度吗?这个问题的答案其实不言而喻了,英特尔、台积电等晶圆厂提前预订的高NA EUV光刻机订单已经证明了它的重要性
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