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众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片
且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机
这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片