这还要追溯到上世纪的1997年,当年极紫外光技术的研发已经到了穷途末路,为了分担在EUV设备产品开发和后期商业转化的风险和成本,在美国国家能源局的牵头下,通过下属的劳伦斯伯克利国家实验室,劳伦斯·利弗莫尔国家实验室,桑迪亚国家实验室三家国家级实验室和技术中心,加上当年的半导体巨头英特尔,组建了极紫外光线公司联盟
因为低一档次的DUV光刻机,我们自己的产业已经初具雏形
据公开信息显示,上海微电子自研的28nm光刻机即将进入生产车间,且这款光刻机能够制造出14nm芯片,这也是为什么DUV光刻机没有被纳入到瓦森纳协定中,没有禁止向中国出口