有句话说,芯片是微观制造工艺的极限
那么将这个极限制造出来的光刻机,有多难非常明显了,而每一纳米的突破,都是极其难得,阿斯麦尔温彼得甚至还表示,中国不太可能独立造出顶尖光刻机
要说最难的就是这3个点了
1、光源我们知道,目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了,而其使用的就是极紫外线,能够将光刻技术扩展到32nm以下
当初我们原子弹制造是从0到1的跨越,万丈高楼平地起,而光刻机要说,其实是从1到2的进程,只是目前我们没有办法研制高端光刻机,因此我们要做的,就是将高端技术走向高精端,只是这个过程并不容易了