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供应商遍布全球

光刻机的工作原理说到这儿，大家可能已经茅塞顿开，合着这玩意儿就起着“转移图形”的作用

这样的话，似乎也没什么了不起

从理论上来说，转移图形并不难，难的是芯片变得越来越小，其中容纳的晶体管数量越来越多

这就意味着，光刻机必须要将复杂的集成电路图形，精确地转移到小N倍的芯片上，一旦出现什么意外，芯片就报废了

并且，随着大家对芯片大小和性能要求的不断提高，“光刻机”就显得更加重要了

随着芯片大小的改变，光刻机的作用愈加明显就这样，光刻机的线宽在不断优化升级，它的飞速发展创造了诸多的契机，让IC制造技术的极限不断被打破，摩尔定律也得到了不断的延伸

荷兰ASML公司的一位高管也曾表示，EUV光刻机的研制难度非常大，部分零部件的调整，差不多要耗费十年的时间

以上两位行业大拿的话乍一听很夸张，但从ASML公司垄断EUV光刻机全部市场份额的结果来看，这二位说得并不夸张

真的没那么容易

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原子弹与光刻机有着本质上的区别，一个要的是能“炸响”，一个要的是能“用”！原子弹只要能够提取出关键的原料，就能造得出来，而光刻机则不一样，一个国家凭借自己的力量真的很难造出来

也就是市场上所说的成熟制程领域，集中在２８纳米和１４纳米

中国目前国内的目光都集中在上海微电子的28纳米DUV光刻机交付进展

而根据美国媒体的消息，美国政府正在推动对中国出口１４纳米制程设备的禁令

如果消息属实，那将使我们的半导体产业环境更加困难

外包装很精美，比联想db75好多了。先前用db75太久了，光头有点灰尘，抓出来的音频有问题，换了之后就好多了。目前没问题，各方面都很好。eac上可以直接查到偏移值，好用！

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ASML总裁兼首席技术官Martin van den当时就表示，英特尔对ASML在High-NA EUV技术的远见和早期承诺证明了对摩尔定律的不懈追求

今年9月，台积电研究发展资深副总经理米玉杰也对外表示，台积电将在2024年取得ASML新一代High-NA EUV光刻机，为客户发展相关的基础设施与架构解决方案

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所以其它厂商，只能另想办法，换道超车，用另外的技术来替代EUV光刻机

目前已经有三大方案，都被认为是可以替代EUV光刻机方案的，并且被大家重视，很多企业更是投入巨资研发，以期有所突破，进而替代EUV光刻机

第一大方案是NIL纳米压印，其原理类似于打印机一样，先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达到至少2nm的精度

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在我国大力推进芯片国产化的背景下，中企能如愿收到ASML的DUV光刻机，无疑来得很及时！ASML硬刚老美有什么目的？小编认为，ASML之所以义无反顾的对中企供货，其实ASML的日子并不好过，简直是腹背受敌！首先，全球半导体下行，不少晶圆厂因订单不足开始削减成本，对光刻机的需求也逐步放缓，而我国芯片自给率又要在2025年提升到70%，根据ASML公布的财报显示，大陆市场已经成为ASML的第三大重要市场，试问又有谁愿意放弃自己的“金主”呢

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全球各地的晶圆制造厂都要依赖ASML的中高端光刻机，这确实足以让ASML傲气十足

然而，随着形势的发展，ASML的态度开始转变了，对我们和对美方都在变化

光刻机是芯片制造过程中不可缺少的核心设备，它之所以被称为人类工业皇冠上的明珠，主要是因为它集成了全球多国多项最高端的技术，所要求的精准度非常之高

不仅如此，前段时间ASML的总裁还直接表示，继续限制光刻机卖给中企，5年内他们将掌握所有EUV光刻技术，15年之后ASML或将失去行业话语权，后果非常严重

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三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备

一直都蛮喜欢先锋，在华硕和先锋两个品牌面前纠结了好久，最后还是选择了先锋，读书的时候就是只用先锋，现在还是选择先锋，质感非常不错哦，小日本的东西还是不错的！便携式给客户刻录碟片非常方便！给京东一个大大的好评！赞！

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荷兰7纳米光刻机1亿多美元一台

光驱，哈哈已经是牙齿掉光的产品了，估计再过几年就消失了，小朋友学校里面有光盘，直接买了一个，装上，方便使用，以前还记得是很高大上的额东西，现在都已经快被淘汰的，感叹啊，先锋这个牌子估计以后也会慢慢的越来越少看得到！好评！

在上个月，美国政府颁布了一项新的法案，该法案将对中国的芯片进口，进行更严格的限制