众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导体设备
而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm
还有UV(i-line)光刻机,主要用于0.35um工艺
??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机,连接笔记本电脑,质量可靠非常满意,刻录机很好,收到后就安装上,就刻了一张cD盘和一张D9盘,非常不错。
当然,目前全球也在研发其它技术的光刻机,比如多电子束直写光刻机(MEB)、定向自组装技术(DSA)、nm压印技术(NIL)等不同新技术也,希望这些技术有所突破,那么我们就不必依赖ASML了,否则真的太难超越它了