High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家
High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍
ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:“一些客户在某些消费者驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象,但我们仍然看到对我们系统的强劲需求
虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统,但供应链限制的增加导致出现了延迟