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很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

读盘速度：读盘速度很快的，pineer先锋大品牌，品质有保障。 产品包装：包装结实，简单。 读盘声音：读盘声音不大，可以接受。 稳定性能：稳定性好。 轻薄程度：很轻薄，方便携带外出？。 外形外观：外形简约，灰黑色的，显得特别上档次。 京东自营的，物流给力有保障，好评好评。

ASML公司发言人就有关消息回应称，“这种讨论并不新鲜

”报道提到，ASML是全球最大的光刻系统制造商，光刻机是半导体制造过程中的关键设备

众所周知，光刻机是工业皇冠上的明珠，由十万多个零部件组成，重达近200吨，集合了世界各国最顶尖的技术，每项技术都是独一无二的，可以说是全球工业技术的巅峰，在半导体制造行业具有极其重要的地位

科益虹源负责光源系统，唯一知道的是国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破国外垄断，国望光学参与物镜系统的打造，至于控制软件还有待完善产业链，就差这最后一块版图需要拼接了

质量很好，安装简单，使用方便，京东快递很给力，全五星好评，好好好好！！！包装完好，物流很快，外观设计也不错，总体挺好的！

为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字

毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西，是依靠着全球产业链的支持，进行供应而成

当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了

可是目前我们所能够知道的，高端的光刻机，比原子弹要极为稀有，这是不得不面对的事实

根据中科院光电所所长，罗先刚介绍说：2012年，该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

就个人觉得，如果ASML早就打好了这个算盘的话，那么这限制出货的一开始或许就是一个局

之所以这样说，是因为从限制到现在，这个事情一直都在所谓的洽谈当中并没有正式限制，和当初对EUV光刻机的限制完全不同

现在的整个过程，ASML暂时还没有受到什么影响，该出货还是在出货，该增加的营收还是在增加，并且ASML还有意加码中国市场

正式“放权”ASML后

那么按照ASML反对不出货的情况来看，出货光刻机到我们国内市场算是基本确定的局面了

读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意

这也是为何美方坚持对其游说，想要将荷兰拉入打压中国半导体的队伍

若是美国的《芯片法案》成功拉取到荷兰的支持，再加上日本的加入，中国在高端半导体领域的发展将会举步维艰

那么，荷兰为何坚持拒绝随美遏华呢？其实，这其中有着三个原因

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

而不仅仅是技术，更是一个巨大的市场， ASML曾经在张忠谋的带领下，从台积电那里拿到了一笔大笔的订单，亲自教导台积电怎么经营芯片工厂；ASML公司为了拿到三星的订单，一直憋着一口气，觉得自己很没面子，没料到如今威风八面的 ASML，竟然也有这么一段丑陋的过去

做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的

挺好的，和想象中一样，随意搭都很好看，满意！实用性和颜值都非常的赞，我很喜欢，还会再来买的宝贝做工真的非常精细，细节真的棒，爱了爱了

而后道光刻机，同是用于芯片制造的后道工序，比如芯片封装等，另外还有光刻胶制造也需要后道光刻机等

相对而言，前道光刻机更难，更为重要

同时对精度要求也越高，所以前道光刻机又分EUV、DUV、UV光刻机

而DUV光刻机按照精度，又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；ArF Dry用于65nm，KrF用于180nm等等

而更重要的是，芯片的前道工序非常重要，并且是几百种设备相互配合，而这些生产设备以国外的产品为主，所以国外的光刻机能够相互配合兼容，这是大家多年来合作的结果

先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。

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国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样

EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性

面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显

目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大

对英特尔、台积电以及三星这些头部芯片制造商来说，拥有最顶尖的光刻机，他们生产出来的芯片性能要领先其他厂家一大截，如此一来，其他厂家根本就没有竞争优势

对于我国芯片制造商来说，其实也存在很大的挑战，一直以来光刻机都是制约我国芯片发展的技术瓶颈