滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试

而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm

本来准备装电脑上的，结果发现机箱没有光驱位，索性加一个光驱盒，拿来当外置光驱，没想到速度还挺快的，声音很小，比较安静

按照机构的数据，2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+，所以我们现在的重点不是先进工艺，而是全产业的国产化率，同时提升产能，先满足国内成熟工艺的需求，先解决了这些问题，再向先进工艺前进，这样才走得稳健

美方将科技和经贸问题政治化、工具化、意识形态化，对别国搞技术封锁、技术脱钩，其用心人尽皆知

企图堵别人的路，最终只会堵死自己的路

我们希望有关方面秉持客观公正立场，从自身长远利益和国际社会根本利益出发，独立、自主地作出正确判断

据报道，施赖纳马赫尔22日对议员表示，在美国与其他盟友进行贸易规则谈判的过程中，荷兰将在阿斯麦向中国出售芯片设备的问题上作出自己的决定

“重要的是我们要捍卫自己的利益——我们的国家安全，以及我们的经济利益

”施赖纳马赫尔说，如果荷兰将光刻机的问题放进“欧盟的篮子”与美国谈判，结果就是他们把极紫外线（EUV）光刻机送到美国人手中，“我们的情况会更糟”

ASML为何拒绝美方向华禁售要求?

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如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，首台交付时间就在明年

一旦我国光刻机被研制出来，那么ASML的市场就会被严重挤压

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

考虑到台积电还在不断的推进5nm、3nm，需要更多的EUV光刻机，未来这个耗电量还会增加

为此，台积电也在努力想办法，比如自己去买电厂，解决供电问题，还直接与一些电站签订采购合同，确保电力供应，甚至还不得不将产能转移至美国等地，缓解供电危机，但一年190多亿度电，需要100多亿元的电费，让台积电也是很头痛

发货速度快，包装严实，刻录机做工很精致，装上很好用，就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱，完美安装上后，开机自动识别，无需任何操作（win7）

这不管是对于我们国内市场上，还是对于ASML来说都是一个不太好的信号

只不过，现在“突破点”出现了

就在日前，有消息透露目前老美正在对日半导体进行施压，据悉是直接要求日半导体配合美限制出货的问题

至于小编为何说这是一个突破点，是因为日半导体的决定很有可能会影响到荷兰方面的协议

拉扯了那么久的DUV光刻机是否会被限制的事情，还是迎来了一个我们并不想看到的局面——“荷兰正在同老美商量对于实施半导体设备出货限制的事情进行谈判，最早会在下个月达成新的协议

在与中国的贸易中，阿斯麦目前只供应了技术相对低一档次的DUV（深紫外线光刻机），该设备瞄准的是工艺技术在7纳米以上芯片的制造，覆盖了目前市场上大部分成熟制程的芯片，而中国也是阿斯麦DUV光刻机的最大客户之一

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当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样

但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了

这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案

目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）

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如此种种都导致了荷兰和ASML在迅速转变态度，而且就在荷兰外贸与发展合作大臣发话后，ASML再度向中国供应光刻机，显示出ASML已开始抓紧机会抢占中国市场，荷兰和ASML似乎已迅速醒悟过来并抓住了机会，毕竟中国是全球最大的芯片市场，谁能抢占先机就能获得更多收入

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ASML为何坚持向中国出售光刻机？主要还是有以下几点原因

首先是为了自己的销售额，据相关数据统计，全球100多家芯片企业中，我国的芯片厂商就有42家，如今高端芯片被台积电和三星这些龙头企业所垄断，而我国中低端芯片产能还非常高

为了能尽快解决芯片发展受限的情况，国内的企业也在不断发力，为的就是能尽快解决国产光刻机和芯片“卡脖子”的问题

曾经ASML公司发出了对中企的冷嘲热讽：“其高管直言，就算把图纸给你们，你们也造不出来

”ASML为何坚持向中国出售光刻机？ASML看不起中企，却为何要转变态度向中企出货？说白了其实还是为了自己的营收，为了自由出货