可以将设计网格与Zyvex Labs的像素网格相同的计算机辅助设计 (CAD) 文件加载到 ZyvexLitho1 中,并且可以将图案自动分割成不同的几何形状,从而允许尖端矢量与不同的光刻模式一起使用
然后可以自动进行曝光
这种非曝光成像模式允许自动识别硅晶格,因此可以自动识别像素在表面上的位置
这种 Lattice Lock 过程自动保持尖端定位(以及因此光刻)准确
数字矢量光刻ZyvexLitho1 使用氢去钝化光刻从Si(100) 2×1 二聚体列(dimer row)重建表面去除氢(H)原子