其次,美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片,日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影(NIL)工艺技术,将高端芯片的制造成本降低了40%左右
老美对于EUV光刻机近乎歇斯底里的管控,引起了ASML公司的极度不满,该公司CEO彼得・维尼克曾多次向老美发出警告:如果不卖给中国EUV光刻机,用不了几年,中国人就会找到有效地解决方案,拉下EUV光刻机时代的帷幕
“国内并不缺乏优秀的芯片设计企业,芯片设计能力全球领先,只不过是国内没有能够制造高端芯片的企业罢了