那么问题来了,当前国产半导体设备中,技术最先进的是哪一种,技术相对最落后的又是哪一种呢?上图这张图,其实说得非常明白了
刻蚀机应该是当前国产半导体设备中,唯一达到国际先进水平的,已经达到了5nm
这家公司就是中微公司,其生产的刻蚀机,早就实现了5nm,被台积电、中芯等晶圆厂使用
可见,光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了,所以国产光刻机真的要努力才行,不说实现5nm,先实现28nm,再搞定14nm,先实现与其它国产半导体设备一个节点才行,你觉得呢?而只要国产半导体设备有了突破,达到先进水平,禁运也就没有了任何意义,也就会全面放开了,刻蚀机就是最好的例子