面对这种局面,想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了,不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多,但是取得的效果并不是很明显
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机,而且目前还没有正式量产,这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的,跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大
对英特尔、台积电以及三星这些头部芯片制造商来说,拥有最顶尖的光刻机,他们生产出来的芯片性能要领先其他厂家一大截,如此一来,其他厂家根本就没有竞争优势
对于我国芯片制造商来说,其实也存在很大的挑战,一直以来光刻机都是制约我国芯片发展的技术瓶颈