对于中国来说,中国如今正在力推28nm、14nm光刻机的量产,这些都的DUV光刻机,与EUV光刻机可还隔着一代,在先进的DUV光刻机尚在努力攻克的情况下,推进EUV光刻机技术并不容易
如此就可以看出,中国企业提出的一两项专利其实对于光刻机产业影响有限,它需要整个供应链共同努力才能实现光刻机的量产,而一家非光刻机产业链的企业提出的光刻机专利恐怕影响就更为有限了
正是由于EUV光刻机的高度复杂性,至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机,其他国家并无法生产出EUV光刻机,而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件,ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机