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日前媒体报道指国产先进光刻机的产业链正逐渐完善，纯国产光刻机即将出现，难怪ASML之前加紧向中国出售光刻机了，它非常担忧中国光刻机将成为它的强劲对手

正是由于国产产业链在光刻机方面的进展，让中国正成为全球最具潜力的光刻机生产国，这方面是ASML所在的荷兰和尼康所在的日本都无法达到的，产业链已成为中国光刻机的核心竞争优势

两三年后，林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来，显示它的技术优势，浸润式光刻机随即成为市场主流，至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业，此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固

装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。

多次购买，用的都是这品牌，质量没的说，全五星，刻录很快，快递很快！电脑已经发走了，也没来得及试，这个价格很便宜，包装也很好，沉甸甸的，总体很棒

读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限，与ASML的技术路线完全不同，不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局

当然，研制出这款超分辨率光刻机，并不意味着我们已经实现了弯道超车，否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况

我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！

在先进晶圆厂，28纳米以下的逻辑芯片制程，其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加，所以节点越先进，EUV光刻机所需数量越多

所以，28纳米以下的高级逻辑芯片，其光刻设备的投资额度，将随着逻辑节点的代差，指数级增加

刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。

好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??

光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下，先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加：1，5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%；2，3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%；3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

第一代为接触式光刻机，掩模会和光刻胶直接接触，使掩膜版和基片都易受到损伤

第二代是接近式光刻机，掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长，但是成像质量也受到了影响，分辨率明显下降

到了第三代时，就已经有了明显进步了，属于扫描投影式光刻机，在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破，将光刻推向了深亚微米和百纳米级别

资料显示，从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约1/10000

当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样

但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了

读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。

下单没隔多久就收到了，快递速度非常快，这是选择京东购物的一个原因，第二个原因就是在京东购物正品，有保证，货物包装严实，小巧玲珑，看起来非常高端，大气上档次，使用起来效果更是满意。读盘速度非常快，性能稳定

以前基本没有认真评价过不知道浪费了多少积 分，这个福利真好真好，妥妥每次都写100多字，这 是第N次在网上买东西，棒棒棒！很厉害，好便 宜，而且质量很不错，物美价廉买得放心，用得开 心，现在购物已经是每天的必做的事了，买买买根 本停不下来，东西品种多，分类清晰，超级划算而 且方便，主要是还实惠，包装设计很好，并且没有 损坏，希望卖家可以一直保持】，这是一个好评模 版，因为如果每次要长篇写好评也是会耽误好多时 间和精力的，希望能帮到要写详细评论的亲们。

虽然看起来28nm距离最先进的3nm依然有不小的差距，但实际上无论是日常生活还是航空航天等领域中28nm是使用最广泛的芯片制程

一旦28nm光刻机取得突破，也标志着在物联网、智慧工业、航空航天等领域可以完成自主可控

ASMLASML突然加大出口力度在国产光刻机即将取得突破的同时，ASML突然一反常态开始加大光刻机的出口力度

王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》

王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

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