其实,我国光刻机的起步并不晚,早在20世纪60年代,中科院就开始研究,1965年就研制出第一台接触式国产光刻机,1985年研发成功了第一台分布式投影光刻机
此时,ASML才成立一年之久,我国的光刻机水平跟国际先进水平的差距才不到7年
近日,位于上海临港新片区的鼎泰匠芯传来好消息,洁净室正式交付,还搬入了首台ASML光刻机
这再次证明了ASML的态度,不会听从美限制,将继续出货DUV
其实,ASML早就下定了决心
面对大陆这个全球最大的半导体市场和全球最大的半导体设备市场,ASML当然不想错过,一直在默默地加大大陆的布局力度和重视程度