极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前,有必要回顾EUV光刻机发展历史,简而言之,在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里,有4个里程碑的阶段,包括:1,2003年之前的两镜头曝光装置(MET);2,2006年的六镜头EUV演示工具(ADT);3,2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机;4,明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机
曝光系统被置于真空罩中
在这个系统里,最核心的投影光学部分(MET projection optic)主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术,而这些也是长春光机所02专项的核心工作