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由数据显示，在2022年的第一季度中，中国企业第一次在世界晶圆代工市场中突破10%的占有率，市场占有率达10.2%

同时，根据公布的相关数据，中国集成电路出口在2021年达到3107亿块，与同时期相比增长了19.6%

美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

对于中国来说，中国如今正在力推28nm、14nm光刻机的量产，这些都的DUV光刻机，与EUV光刻机可还隔着一代，在先进的DUV光刻机尚在努力攻克的情况下，推进EUV光刻机技术并不容易

如此就可以看出，中国企业提出的一两项专利其实对于光刻机产业影响有限，它需要整个供应链共同努力才能实现光刻机的量产，而一家非光刻机产业链的企业提出的光刻机专利恐怕影响就更为有限了

因此，想限制高端光刻机很容易，只要对ASML下手就可以了

而我们的高端国产光刻机之所以迟迟没有出现，主要是因为光刻机的制造没有大家想象中的这么简单

虽然高新的技术可以通过不断地钻研学会，但是一台完整光刻机却包含10万多个零部件，并且这些零部件的5000家供应商遍布全球

光刻机被禁

光刻机不仅零件诸多，供应商还遍布全球这就意味着，现在想制造出“完全国产”的并不现实，就连著名的ASML公司其实都是承担了核心零件的生产，以及整体的装机工作而已

再是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，这意味着美国芯片企业未来可能不再采购ASML的EUV光刻机，这更是要了ASML的命根，毕竟光刻机业务就是ASML的根本

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ASML向中国交付光刻机可能仅仅是开始，因为ASML已表示将在未来两三年将EUV光刻机产能扩张到90台，DUV光刻机产能扩张到600台，大规模扩张光刻机产能瞄准的客户除了中国恐怕再无其他，可以预期ASML未来必然会加大对中国出售光刻机的力度，不会再看美国的脸色

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尽管国内也有生产光刻机的厂商，但是在精度上显得有点技不如人

目前国内最先进的光刻机制程仅可达到90nm，这对于国产芯片产业链来说，还远远不够

要知道，中国市场可是全球最大的芯片消耗市场，对高端芯片和28nm等成熟芯片的需求都是巨大的

至于老美是如何说服荷兰扩大禁售范围的，我们暂且不知

现在，美国的加码施压，扩大打击范围，意欲将DUV也纳入控制范围，这不但会让中国正常的扩产通用芯片的能力面临考验，更会进一步限制中国向国际市场供应的能力

今年上海进博会上的阿斯麦公司展台 物极必反，荷兰ASML公司会听从美国的禁令吗？报道证实，从ASML公司到荷兰外贸与发展合作部，都对美国的长臂管辖恼怒异常

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也就是说，28 nm的光刻机是可以预期的，根据 ASML的发展历程来看，28 nm到10 nm的光刻机，最快也要5年，28 nm是光刻机的关键点，而28 nm是最重要的环节，也是最好的选择，也是最好的选择，只要能将28 nm以上的技术全部攻克，那么接下来的提升就简单多了

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

考虑到台积电还在不断的推进5nm、3nm，需要更多的EUV光刻机，未来这个耗电量还会增加

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光刻机

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众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片