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光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

第一代为接触式光刻机，掩模会和光刻胶直接接触，使掩膜版和基片都易受到损伤

第二代是接近式光刻机，掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长，但是成像质量也受到了影响，分辨率明显下降

到了第三代时，就已经有了明显进步了，属于扫描投影式光刻机，在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破，将光刻推向了深亚微米和百纳米级别

资料显示，从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约1/10000

当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样

但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了

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虽然看起来28nm距离最先进的3nm依然有不小的差距，但实际上无论是日常生活还是航空航天等领域中28nm是使用最广泛的芯片制程

一旦28nm光刻机取得突破，也标志着在物联网、智慧工业、航空航天等领域可以完成自主可控

ASMLASML突然加大出口力度在国产光刻机即将取得突破的同时，ASML突然一反常态开始加大光刻机的出口力度

王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》

王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

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IBM表示，明年会推出量子为中心的超级计算机，实现对现在这种硅基芯片超算的碾压

而中国在量子计算这样的领域，肯定也不会借过，毕竟硅基芯片落后了后，我们更需要换道超车，在量子计算上领先才行

为此，国内也一直在研发量子芯片，量子计算机等，近日，安徽省量子计算工程研究中心传出消息，我国量子计算机“悟空”即将面世

刻录机光驱质量不错?，刻录效果非常不错?价格合理，京东商城网购放心。很好用，携带方便，而且刻录速度非常快

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周杰伦 - 安静 (2009香港红磡周杰伦演唱会).mp32:26来自大熊聊数码都知道，要制造先进制程芯片，就必须要使用EUV光刻机

但受到芯片禁令影响，中企花再多钱也买不到ASML公司的EUV光刻机，目前ASML公司仅仅只能供应部分“过时”或“淘汰”的DUV光刻机给中企

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当然，技术难题只能算是其中的一个“小巫”，因为各国对于光刻机的制造都很上心，所以随着技术的研发，许多技术上的难题都将被解决

因此最大的问题其实在于，咱们上文中说的，光刻机本身是非常庞大和复杂的，它内部的各个零件都来自于不同的国家和公司，算得上是真正的“大杂烩”

新开办公司，之前配置过四台，这一次配了一台全是办公高配的，物流快，发票齐全，自己组装价格质量也还放心，希望京东无假货！上个全图吧。组装花了两小时。一次点亮。

美国谋划终成空

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这也是为何美方坚持对其游说，想要将荷兰拉入打压中国半导体的队伍

若是美国的《芯片法案》成功拉取到荷兰的支持，再加上日本的加入，中国在高端半导体领域的发展将会举步维艰

那么，荷兰为何坚持拒绝随美遏华呢？其实，这其中有着三个原因

中国芯片最后，美国禁止对华出口高端芯片，显然会迫使中国走向自主创新的道路